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半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。
一、半导体行业用超纯水设备工艺 ：预处理→UF 系统→一级反渗透→PH 调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→ 紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI 装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM) 半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯 水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用，已经得到广泛认可。
二、半导体生产用超纯水设备工艺流程： 原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自 动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→ 二级高压泵→二级反渗透系统→二级 RO 纯水箱→EDI 增压泵→UV 杀菌器→脱气膜→精密过滤器 →EDI 装置→EDI 纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u 膜过滤器→生产线用水点
三、半导体生产用超纯水设备工作原理： 超纯水装置供给原水进入 EDI 系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外 侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下， 阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外， 阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂 /膜内流出。
四、半导体生产用超纯水备工艺
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精
密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药机(PH 调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外
线杀菌器-0.2 或 0.5μm 精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI 装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2 或 0.5μm
精密过滤器-用水对象
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI 装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床
-TOC 分解器-0.2 或 0.5μm 精密过滤器-用水对象(新工艺)
五、半导体生产用超纯水备特点
1、选用高性能离子交换树脂，工作交换容量大，能耗低，使用寿命长。
2、控制部分全部采用进口控制器，保障设备持续安全运行。
3、全自动控制系统，出水稳定，使用操作方便快捷。
4、结构合理，安装操作方便。
5、可根据实际使用需求，水处理设备个性化设计相应设备。
六、半导体行业用超纯水设备采用 PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高；大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理；使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性，为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO 反渗透主机系统、离子交换混床(EDI 电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用 PLC 可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
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